Kinas "Manhattan-prosjekt" utfordrer AI-monopolet

Kina har funnet måter å øke produksjonen av avanserte AI-brikker på ved å oppgradere eldre litografimaskiner fra nederlandske ASML, til tross for US-ledede eksportkontroller. Ifølge Reuters og Financial Times har kinesiske fabrikker forbedret ytelsen til eldre dyp-ultrafiolett-maskiner (DUV) ved å skaffe kritiske komponenter – som wafer-stages, linser og sensorer – via sekundærmarkedet og tredjepartsleverandører. Oppgraderingene gjør det mulig å produsere syv-nanometer-brikker som trengs for moderne AI- og smarttelefonprosessorer, selv uten tilgang til ASMLs mest avanserte utstyr.

Tiltakene avdekker klare svakheter i eksportkontrollregimet. Selv om ASML formelt er forhindret fra å levere ytelsesforbedrende oppgraderinger og kun har lov til å tilby begrenset service, oppgir kilder at kinesiske fabrikker bruker eksterne ingeniører til å installere forbedringer som øker både presisjon og produksjonshastighet. Dette reduserer noe av kostnaden og ineffektiviteten ved fler-eksponering (multi-patterning), som ellers gir lavere utbytte og høyere produksjonskostnader.

Kinas «Manhattan-prosjekt»: EUV innen 2030

Parallelt pågår et langt mer strategisk og konfronterende prosjekt. Ifølge Reuters har Kina, i et høysikkerhetsanlegg i Shenzhen, bygget en fungerende prototype av en ekstrem-ultrafiolett (EUV) litografimaskin – teknologien som i dag er selve flaskehalsen bak USAs og Nvidias dominans innen avanserte AI-brikker. Prosjektet beskrives av kilder som Kinas versjon av Manhattan-prosjektet: et statlig koordinert, flerårig program der tidligere ASML-ingeniører, statlige forskningsinstitutter og Huawei inngår i et lukket, nasjonalt økosystem.

Prototypen genererer EUV-lys og er nå under testing, men har ennå ikke produsert fungerende brikker. Myndighetenes mål er kommersiell produksjon innen 2028, selv om kilder tett på prosjektet mener 2030 er et mer realistisk tidsperspektiv. Selv med denne tidsrammen representerer prosjektet et dramatisk fremskritt sammenlignet med tidligere antakelser om at Kina lå minst et tiår bak Vesten på EUV-teknologi.

Kombinasjonen av kortsiktige DUV-oppgraderinger og et langsiktig EUV-løp viser at Kina ikke lenger bare forsøker å omgå eksportkontroller, men systematisk bygger et parallelt teknologisk fundament. Resultatet er en skjerpet konkurransedynamikk der USAs og Nvidias AI-dominans fortsatt hviler på et betydelig forsprang – men der monopolet for første gang fremstår som tidsbegrenset snarere enn strukturelt.